課程進度安排 |
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時間 |
課程大綱 |
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第一階段 |
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學(xué)習(xí)目標(biāo) |
掌握Linux基本操作,vi編輯器的使用,virtuoso軟件的操作。 |
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1 Linux的用戶界面及工作站的登陸。
1.1 Linux概述
1.2 Linux系統(tǒng)訪問
1.3 Linux的圖形用戶界面
1.4 Linux的文件和目錄
1.5 文本編輯器Vi
實驗:登陸工作站,訪問相關(guān)目錄和文件,編輯文件。
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2 virtuoso軟件的啟動
2.1 virtuoso軟件的配置文件cds.lib
2.2 icfb的啟動:icfb
2.3 版圖建庫的文件display.drf
實驗:編輯 cds.lib文件。
啟動icfb,建立一個layout 庫,刪除一個庫。
3 virtuoso軟件的操作
實驗:編輯.cdsinit 文件。
使用快捷鍵。
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4.
4.1
IC設(shè)計流程及
4.2IC版圖設(shè)計的作用
4.3平面半導(dǎo)體工藝和術(shù)語
4.4CMOS基本工藝過程
4.5NMOS/PMOS/NPN/PNP 及其版圖實現(xiàn)
4.6反相器的版圖實現(xiàn)
4.7版圖設(shè)計環(huán)境及工具的使用
4.8版圖編輯的快捷鍵 |
第二階段 |
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學(xué)習(xí)目標(biāo) |
了解IC版圖的基本概念,半導(dǎo)體的工藝流程,學(xué)會做版圖的基本器件。 |
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5 半導(dǎo)體基礎(chǔ)理論、集成電路制造工藝
5.1 MOS場效應(yīng)晶體管
5.2 集成電路中的器件結(jié)構(gòu)
5.3 外延生長
5.4 掩膜制版工藝
5.5 光刻
6 集成電路設(shè)計概述
6.1 集成電路設(shè)計流程和設(shè)計工具
6.2 國內(nèi)外集成電路技術(shù)發(fā)展概況
6.3 國內(nèi)外主要集成電路晶圓代工廠(Foundry)介紹
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6 半導(dǎo)體器件原理及版圖設(shè)計
6.1 Design Rule的基本概念及內(nèi)容。
6.2 MOS管的版圖設(shè)計及剖面圖。
6.3 反相器(invter)的結(jié)構(gòu)及版圖設(shè)計
6.4 電阻的種類(well\poly\diff\mos)及版圖設(shè)計
6.5 電容的種類(mim\mom\mos)及版圖的設(shè)計
6.6 二極管及三極管的原理及版圖設(shè)計
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7.1并聯(lián)晶體管的版圖實現(xiàn)
7.2串聯(lián)晶體管的版圖實現(xiàn)
7.5設(shè)計規(guī)則的介紹 |
第三階段 |
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學(xué)習(xí)目標(biāo) |
學(xué)會DRC和LVS。 |
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8.設(shè)計一個NAND芯片版圖
9 DRC的概念及檢查DRC的軟件。
9.1 DRC的概念,基于Design Rule的check.
9.2DRC的配置及操作。
9.3 DRC的介紹。
9.4 DRC Results。
10 LVS的概念及檢查LVS的
10.1 LVS的概念,Netlist的提取。
10.2 LVS的配置及操作。
10.3 LVS的技巧
10.4 LVS Report。
實驗:
1、INV芯片的LVS驗證及修改
2、Control芯片的LVS驗證及修改
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11.1較大晶體管的串聯(lián)版圖設(shè)計
11.2復(fù)雜邏輯電路版圖設(shè)計舉例
11.3如何進行設(shè)計規(guī)則的檢查(DRC)
11.4版圖與邏輯設(shè)計一致性驗證(LVS)
11.5技巧
11.6總體設(shè)計
11.7實驗課題的布局規(guī)劃 |
第四階段 |
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學(xué)習(xí)目標(biāo) |
掌握做一個OPAMP的版圖設(shè)計及LVS DRC的Check。 |
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12 IC layout模擬模塊設(shè)計
12.1 總體。
12.2 其它對稱的概念及版圖設(shè)計
12.3 不同器件特性相對版圖布局的關(guān)系
12.4 關(guān)鍵線的連接
12.5 電源和地線的連接
12.6 LVS DRC check
實 驗:完成OP版圖,及LVS DRC的check。
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第五階段 |
學(xué)習(xí)目標(biāo) |
掌握大型Chip 的概念及布局,完成一個chip。 |
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13 Chip 的概念及布局
13.1 總覽
13.2 技巧。
13.3 PAD及內(nèi)部模塊的連接
13.4 電源和地線。
13.5 總結(jié)。
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實驗:
完成一個完整的chip
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